铬靶材是一种用于PVD技术生产薄膜的材料，在半导体制造、光学镀膜、磁盘制造等领域有广泛应用。通常情况下铬靶材具有高纯度、均匀的化学成分，并且具有良好的加工性能和稳定性。
铬靶材检测项目
磁性、弹性模量测量、热导率、热稳定性、热处理性能评估、表面粗糙度、铬含量、电导率、表面平整度、合金元素含量、表面涂层厚度测量、涂层附着力、表面缺陷、化学成分分析、表面耐磨性、杂质元素含量、物质组成、硬度、密度测量、热膨胀系数等。
铬靶材检测标准举例
1、YS/T 1220-2018 铬靶材
2、YS/T 1234-2018 铬钼合金（CrMo）靶材
3、YS/T 1555-2022 铂钴铬硼合金溅射靶材
4、YS/T 1357-2020 磁记录用铬钽钛合金溅射靶材
5、T/CAS 304-2018 磁控溅射硅靶材及绑定靶材
6、JC/T 2201-2013 镀膜玻璃用靶材
铬靶材检测范围
真空蒸发铬靶、磁控溅射铬靶、光电蒸发铬靶、铬合金管、铬合金棒、铬合金粉末、铬靶膜、纯铬片、溅射铬膜、喷涂铬层、热喷涂铬层、离子镀铬、铬靶片、铬合金丝、铬合金粒子、铬合金块、合金铬板、镀铬表面涂层、化学镀铬、电镀铬等。
铬靶材检测时间周期
到样后7-10个工作日（可加急），根据样品及其检测项目/方法会有所变动，具体需咨询工程师。
铬靶材检测流程
1、沟通需求（在线或电话咨询）；
2、寄样（邮寄样品支持上门取样)；
3、报价（根据检测的复杂程度进行报价）；
4、签约（签订合同和保密协议）；
5、完成检测（检测周期会根据样品及其检测项目/方法会有所变动，出具检测报告，售后服务）。
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